薄膜磁気ヘッド

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：志賀正武 (外8名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-130633
公開番号（公開出願番号）：特開2000-322713
特許番号：特許第3286263号
出願日： 1999年05月11日
公開日（公表日）： 2000年11月24日
請求項（抜粋）：

【請求項1】磁気抵抗効果型素子とシールド層との間に絶縁層が介在されてなり、前記シールド層は非晶質構造から構成され、かつ前記磁気抵抗効果型素子と対向する面はシールド層の結晶化防止膜で覆われており、前記結晶化防止膜は、シールド層側に形成された高融点金属層と絶縁層側に形成された酸化物層からなり、前記高融点金属層はTa,W,Hfのうちいずれか1種または2種以上から構成され、前記酸化物層はAl2O3,SiO2,Ta2O5のうちいずれか1種または2種以上から構成されてなることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。

IPC (1件)：