特許
J-GLOBAL ID:201103042261334044
真空プロセス用装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
西澤 利夫
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-202634
公開番号(公開出願番号):特開2008-025017
特許番号:特許第4505553号
出願日: 2006年07月25日
公開日(公表日): 2008年02月07日
請求項(抜粋):
【請求項1】 真空チャンバー内にて、基板を加熱しながら蒸着する真空プロセス用装置であって、前記チャンバーの一部に光透過性窓が形成されており、当該光透過性窓と前記基板を保持する保持部とを、チャンバー内の他の箇所と隔絶した直線状空間にて繋ぎ、前記光透過性窓の外側にレーザー発振装置を配置し、レーザー発振装置から、前記直線状空間を通って前記基板にレーザー光を照射して加熱することを特徴とする真空プロセス用装置。
IPC (2件):
C23C 16/46 ( 200 6.01)
, C23C 14/24 ( 200 6.01)
FI (2件):
C23C 16/46
, C23C 14/24 K
引用特許:
出願人引用 (2件)
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成膜装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-195568
出願人:新明和工業株式会社
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レーザ加熱装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-258973
出願人:科学技術振興事業団
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