光学薄膜成膜方法および光学薄膜

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：宮崎昭夫 , 岩田慎一 , 緒方雅昭 , 金田暢之 , 石橋政幸 , 伊藤克博
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-096626
公開番号（公開出願番号）：特開2000-282233
特許番号：特許第4405615号
出願日： 1999年04月02日
公開日（公表日）： 2000年10月10日
請求項（抜粋）：

【請求項1】スパッタ法によって基板に光学薄膜を形成する弗化物光学薄膜成膜方法において、弗化物ターゲットを用い、該基板の位置を該弗化物ターゲット表面の法線域から外すとともに該基板の法線を弗化物ターゲット表面の法線と交差させ、かつ成膜時に導入するスパッタガスと酸化物系反応性ガスの流量比を変えることにより、膜厚方向に向かって連続的あるいは段階的に屈折率が変化する傾斜膜を成膜することを特徴とする弗化物光学薄膜成膜方法。

IPC (3件)：