特許
J-GLOBAL ID：201103042877458960
真空アーク蒸着方法及びその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤田 龍太郎
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-365606
公開番号（公開出願番号）：特開2003-166050
特許番号：特許第4003448号
出願日： 2001年11月30日
公開日（公表日）： 2003年06月13日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 湾曲又は屈曲した断面矩形のダクトの一端に位置した蒸発源から、アーク放電により陰極材料を蒸発し、
前記ダクトの複数個所それぞれに前記ダクトを囲んだ断面矩形の磁石を設けて磁気フィルタを形成し、
前記磁気フィルタにより前記ダクトの内部に偏向磁場を発生し、
前記偏向磁場に基づき、前記蒸発によって発生した粗大粒子を除去しつつ、前記陰極材料のイオンを含むプラズマ流を前記ダクトの一端から他端の放出口に輸送し、
前記プラズマ流の前記イオンを前記放出口から成膜室に引出して前記成膜室の基材に飛着し、
前記基材に前記陰極材料を蒸着する真空アーク蒸着方法において、
前記放出口に最も近い終端磁石を、前記放出口の放出面に対して傾けて設置し、
かつ、前記各磁石が電磁コイルからなり、前記各電磁コイルのコイル電流の向きを一定時間毎に切換えて逆にし、
前記終端磁石の発生磁場により、前記イオンの飛着方向を制御することを特徴とする真空アーク蒸着方法。
IPC (2件)：
C23C 14/24 ( 200 6.01)
, C23C 14/32 ( 200 6.01)
C23C 14/24 F
, C23C 14/32 C
