特許
J-GLOBAL ID：201103042908983163

有機顔料の乾燥方法、フタロシアニン顔料の処理方法および電子写真感光体の製造方法

発明者：
田中 正人

田中 正人 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (2件)： 阿部 琢磨 ,  黒岩 創吾
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-161940
公開番号（公開出願番号）：特開2011-094101
出願日： 2010年07月16日
公開日（公表日）： 2011年05月12日
要約：
【課題】 生産性と分散性の両面で優れた有機顔料の乾燥方法、ならびに、該乾燥方法を利用したフタロシアニン顔料の処理方法および電子写真感光体の製造方法を提供する。【解決手段】 減圧下で有機顔料にマイクロ波を照射して有機顔料を乾燥させる減圧下マイクロ波乾燥工程を有する有機顔料の乾燥方法。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
減圧下で有機顔料にマイクロ波を照射して該有機顔料を乾燥させる減圧下マイクロ波乾燥工程を有する有機顔料の乾燥方法。
IPC (4件)：
C09B 67/06 ,  G03G 5/00 ,  G03G 5/06 ,  C09B 67/20
FI (7件)：
C09B67/06 ,  G03G5/00 101 ,  G03G5/06 371 ,  G03G5/06 340 ,  C09B67/20 A ,  C09B67/20 B ,  C09B67/20 E
Fターム (5件)：
2H068AA19 ,  2H068BA39 ,  2H068BA41 ,  2H068EA05 ,  2H068EA19
引用特許：
審査官引用 (13件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM