特許
J-GLOBAL ID：201103042992672690
流体の流れが改善された灌注式アブレーションカテーテル
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
加藤 公延
, 大島 孝文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-099075
公開番号（公開出願番号）：特開2011-229920
出願日： 2011年04月27日
公開日（公表日）： 2011年11月17日
要約：
【課題】電気生理学的カテーテルを提供する。【解決手段】灌注式アブレーションカテーテル10は、薄いシェル及びプレナムチャンバを与えるためのプラグを有する先端電極17を含む。先端電極は、所定のサイズ及び非円形の形状を有する流入口と、薄いシェル壁に形成された流体ポートの形態の複数の流出口を有する。複数の流体ポート及びその直径は所定のものである。すなわち、先端電極は流体入力面積に対する全流体出力面積の拡散比と、流体ポート比を考慮したものとなっている。先端電極はまた、流体流入口のアスペクト比も考慮しており、流体流入口は、非円形の径方向の断面を有している。プレナムチャンバは、より広い遠位側部分に開く狭い近位側部分を有することにより、流体の圧力が低下する一方で流体の速度が大きくなって乱流が増大する所望の効果が得られ、これにより運動量が減少して先端電極内に流体がより均一に分配される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
細長いカテーテル本体と、
前記カテーテル本体の遠位側の偏向可能な部分と、
前記偏向可能な部分の遠位側の先端電極であって、
空洞を形成する外側シェルであって、それぞれが前記先端電極の全流体出力面積に寄与する複数の所定の流体ポートを有する、外側シェルと、
流体入力面積を有する、前記先端電極への流体流入口を含む内部部材と、を備える、先端電極と、を備え、
前記先端電極が2.0よりも小さい拡散比を有する、灌注式アブレーションカテーテル。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (6件)：
4C160KK04
, 4C160KK13
, 4C160KK38
, 4C160KK54
, 4C160MM38
, 4C160NN02
