特許

J-GLOBAL ID：201103043096820547

基板端縁洗浄装置および基板端縁洗浄方法

発明者： 岡本 伊雄 ,  志摩 泰正 ,  酒井 由雄
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-111163
公開番号（公開出願番号）：特開2002-015988
特許番号：特許第3643783号
出願日： 2001年04月10日
公開日（公表日）： 2002年01月18日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 表面に薄膜が形成され、直線状の端縁を有する基板を保持する基板保持手段と、その基板保持手段によって保持された前記基板の端縁の表裏両面の少なくともいずれか一方に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する溶剤ノズルと、溶剤によって溶解された溶解物をガスの吹き付けにより前記基板の端縁よりも外方に吹き飛ばすガスノズルと、溶剤および溶解物を吸引する排気管とを備えた基板端縁洗浄装置において、 前記ガスを前記基板の表面にスポット状に吹き付けるガスノズルを複数設けるとともに、 前記溶剤を前記基板の表面にスポット状に吹き付ける溶剤ノズルを複数設け、 前記複数の溶剤ノズルを、基板の前記直線状の端縁に沿った長さが当該端縁の長さよりも短い固定部材に対して、前記端縁に沿った長さ方向に沿って固定するとともに、前記複数のガスノズルを、前記複数の溶剤ノズルよりも基板の中心側の前記端縁に沿った長さ方向に沿って固定し、 前記固定部材を前記直線状の端縁に対して該直線状の端縁に沿った方向に移動させる移動手段を設け、 前記溶剤ノズルの溶剤吐出部とガスノズルのガス吐出部とは前記直線状の端縁に対して直交する直線上に並んだ状態で固定部材に設けられているとともに、前記ガス吐出部の開口面積は前記溶剤吐出部の開口面積よりも大きいことを特徴とする基板端縁洗浄装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  B08B 3/02 ,  B08B 5/00 ,  H01L 21/304

FI (4件)：

H01L 21/30 577 ,  B08B 3/02 Z ,  B08B 5/00 A ,  H01L 21/304 643 Z

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開平4-065115
  
• フオトレジスト除去装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-302450   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 基板端縁洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-357131   出願人：大日本スクリーン製造株式会社

審査官引用 (4件)

• 特開平4-065115
  
• 基板端縁洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-357131   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 特開平4-065115
  
• フオトレジスト除去装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-302450   出願人：東京エレクトロン株式会社