特許
J-GLOBAL ID：201103043344153277

基板処理装置

発明者：
青木 賢哉

青木 賢哉 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 佐々木 聖孝
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-007824
公開番号（公開出願番号）：特開2001-196295
特許番号：特許第3958911号
出願日： 2000年01月17日
公開日（公表日）： 2001年07月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 ほぼ水平状態の被処理基板に処理液を上方から吹き付ける処理液吐出ノズルと、 前記処理液吐出ノズルの側方および上方の周囲を包囲し、前記被処理基板と対向する底面が開口しているノズルカバーと、 前記被処理基板と対向する前記ノズルカバーの下端部付近の内壁に沿って複数個設けられた排気口を有し、前記ノズルカバー内のミストを負圧による吸引力で前記排気口を介して所定の排気系統へ排出する排気手段と を具備する基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  B08B 3/02 ( 200 6.01) ,  H01L 21/304 ( 200 6.01)
FI (5件)：
H01L 21/30 569 C ,  B08B 3/02 B ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 648 L ,  H01L 21/304 648 K
引用特許：
審査官引用 (6件)
  • 塗布膜形成方法および塗布装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-130970   出願人：東京エレクトロン株式会社
  • 特開昭61-176120
  • 基板表面処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-339303   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
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