特許

J-GLOBAL ID：201103044333877644

基板処理装置

発明者： 吉本 裕二 ,  上村 良一 ,  緒方 久仁恵 ,  出口 洋一
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-105855
公開番号（公開出願番号）：特開2002-301638
特許番号：特許第3741622号
出願日： 2001年04月04日
公開日（公表日）： 2002年10月15日
請求項（抜粋）：

【請求項1】被処理基板に対して所定の処理を実施する処理装置本体と、 前記処理装置本体を制御する制御機構と、 前記処理装置本体における処理の履歴を蓄積する情報蓄積部と を具備する基板処理装置であって、 前記処理装置本体は、 被処理基板に対して所定の処理を実施する複数の処理ユニットと、 前記複数の処理ユニット間で被処理基板を搬送する搬送機構と、 前記複数の処理ユニットの少なくとも一つに設けられた所定の駆動を実行するシリンダ機構と、 前記シリンダ機構における所定の動作に対応する信号を検出する検出手段と を有し、 前記制御部は、 前記基板処理装置本体全体を制御する第1の制御部と、 前記第1の制御部から出力される指令信号に基づいて前記複数の処理部を個々に制御するとともに、前記複数の処理ユニットでの処理の履歴を把握するために必要な情報を含む信号を前記第1の制御部に出力する第2の制御部と を有し、 前記情報蓄積部は、 前記第1の制御部と第2の制御部との間で授受される信号を取り込み、取り込んだ信号に含まれる、前記複数の処理ユニット部での処理の履歴を把握するために必要な情報を蓄積するとともに、前記検出手段が検出したシリンダ機構の動作に関する検出情報を時刻情報として蓄積することを特徴とする基板処理装置。

IPC (1件)：

B23Q 16/02 ( 200 6.01)

FI (1件)：

B23Q 16/02 J

引用特許：

出願人引用 (3件)

• ICハンドラ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-115601   出願人：株式会社日立製作所, 日立清水エンジニアリング株式会社
• 制御システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-168160   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 半導体製造プロセス安定化支援システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-056611   出願人：株式会社日立製作所

審査官引用 (3件)

• ICハンドラ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-115601   出願人：株式会社日立製作所, 日立清水エンジニアリング株式会社
• 制御システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-168160   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 半導体製造プロセス安定化支援システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-056611   出願人：株式会社日立製作所