特許
J-GLOBAL ID：201103044937109521
エアロゲルの製造法と装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
井ノ口 壽
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-562303
特許番号：特許第4458674号
出願日： 1999年07月30日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板上のエアロゲル膜を製造する方法であって、
a)ケイ酸塩、金属アルコラート、アルミン酸塩、ホウ酸塩を含む物質群からの少なくとも一つの物質を液ゾルを形成する、温度が0°C以上に三重点を有する第三アルコールである溶媒と混合する先駆物質を用意し、
b)この先駆物質またはそれから形成された液ゾルを基板上に塗布し、
c)溶媒が液状で存在する温度を選択して液ゾルからゲルを形成し、
d)続いて50,000〜200,000パスカルで、溶媒が固体の状態へ移行する点以下へ、3〜70K温度を下げ、
e)続いて乾燥室内で減圧下溶媒を三重点以下でガス状へ移行させ、ゲル膜から除去し、ガス状溶媒を乾燥室から排出する方法。
IPC (4件)：
C01B 13/32 ( 200 6.01)
, B01J 13/00 ( 200 6.01)
, C01B 33/12 ( 200 6.01)
, C01B 33/158 ( 200 6.01)
C01B 13/32
, B01J 13/00 G
, C01B 33/12 C
, C01B 33/158
