特許
J-GLOBAL ID：201103045617588517
露光方法、電子ビーム露光装置、及び電子部品製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
龍華 明裕
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-376423
公開番号（公開出願番号）：特開2003-234264
特許番号：特許第3971174号
出願日： 2001年12月10日
公開日（公表日）： 2003年08月22日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 電子ビームにより、磁性体を有するウェハを露光する露光方法であって、
前記ウェハをウェハステージに載置する載置段階と、
前記載置段階において前記ウェハステージに載置された前記ウェハに形成されたマーク部の位置を検出するマーク検出段階と、
前記マーク検出段階において検出された前記マーク部の位置に基づいて、前記ウェハの載置位置を検出する載置位置検出段階と、
前記ウェハにおける前記電子ビームを照射すべき照射位置、前記載置位置検出段階において検出された前記ウェハの載置位置、及び前記ウェハステージに載置された前記ウェハが有する前記磁性体により形成される磁界に基づいて、前記電子ビームを偏向する偏向部の偏向量を補正する補正値を算出する算出段階と、
前記算出段階において算出された前記補正値に基づいて前記電子ビームを偏向し、前記載置段階において前記ウェハステージに載置された前記ウェハを露光する露光段階と
を備えることを特徴とする露光方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
, H01J 37/305 ( 200 6.01)
H01L 21/30 541 D
, G03F 7/20 521
, H01J 37/305 B
