特許
J-GLOBAL ID：201103046533794843
パターン露光マスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
金田 暢之 (外2名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-327270
公開番号（公開出願番号）：特開2001-118787
特許番号：特許第3348784号
出願日： 1999年11月17日
公開日（公表日）： 2001年04月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 枠部領域を介して配列されている複数の露光領域にビーム透過部とビーム遮蔽部とで一個の集積回路のデバイスパターンが複数の分割部分ずつ形成されているパターン露光マスクと、該パターン露光マスクに荷電ビームを照射するビーム照射器と、を具備しており、前記ビーム照射器の荷電ビームを前記パターン露光マスクの複数の露光領域ごとに順番に照射させ、前記パターン露光マスクの露光領域のビーム透過部を透過した荷電ビームで露光対象の回路素材に前記デバイスパターンを分割部分ずつ露光するとともに、少なくとも前記回路素材の表面で散乱された荷電ビームで露光が発生し、前記回路素材の表面で前記パターン露光マスクの複数の露光領域を透過した荷電ビームの照射位置を前記枠部領域に対応した部分を介することなく直接に隣接させるパターン露光装置において、前記露光領域が隣接していない端部の前記露光領域の外側の前記枠部領域に荷電ビームを前記ビーム透過部ほど透過せず前記ビーム遮蔽部ほど遮蔽せず散乱するビーム散乱部が形成されているパターン露光マスク。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 1/16
, G03F 7/20 504
G03F 1/16 B
, G03F 7/20 504
, H01L 21/30 541 S
