二次荷電粒子写像投影装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：特許業務法人オカダ・フシミ・ヒラノ , 細江利昭
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-145938
公開番号（公開出願番号）：特開2000-340162
特許番号：特許第4192338号
出願日： 1999年05月26日
公開日（公表日）： 2000年12月08日
請求項（抜粋）：

【請求項1】試料を落射照明するように照明系荷電粒子を偏向し、かつ、試料から発生する二次荷電粒子が直進するように設定されたExBを備えた二次荷電粒子写像投影装置であって、発生する二次荷電粒子によって形成される前記試料の中間像を、前記ExBの中心近傍に結像させる前段写像投影光学系と、前記中間像の像を結像面に結像させる後段写像投影光学系とを備えてなり、後段写像光学系は、少なくとも二段以上のレンズで構成されて中間像を形成するリレー光学系と、投影レンズとで構成されていることを特徴とする二次荷電粒子写像投影装置。

IPC (3件)：