特許
J-GLOBAL ID:200903022495837326
検査装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
佐野 弘
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-096594
公開番号(公開出願番号):特開平10-326586
出願日: 1998年03月25日
公開日(公表日): 1998年12月08日
要約:
【要約】【課題】 単一の検出系で、かつ検出する電子を選択することによって、種々の試料毎の目的に応じた検査ができる検査装置を提供する。【解決手段】 電子銃から出射された一次照射ビーム2を一次光学系を介して試料に照射し、該試料4から発生した2次電子5又は反射電子6を、「二次光学系」としての二次コラム7に設けられた多数のレンズ9,10,11,12を介して検出器8に結像させる検査装置において、前記試料4から発生した反射電子6が前記二次コラム7に導入されるように設定すると共に、該二次コラム7に導入された2次電子5又は反射電子6の何れかを前記検出器8に結像させるように、前記二次コラム7のレンズ9,10,11,12のレンズ電圧を設定可能とした。
請求項(抜粋):
電子銃から出射された一次照射ビームを一次光学系を介して試料に照射し、該試料から発生した2次電子又は反射電子を、二次光学系に設けられた多数のレンズを介して検出器に結像させる検査装置において、前記試料から発生した反射電子が前記二次光学系に導入されるように設定すると共に、該二次光学系に導入された2次電子又は反射電子の何れかを前記検出器に結像させるように、前記二次光学系のレンズのレンズ電圧を設定可能としたことを特徴とする検査装置。
IPC (2件):
FI (2件):
H01J 37/244
, H01J 37/28 B
引用特許:
審査官引用 (8件)
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直接写像型反射電子顕微鏡
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-095180
出願人:日本電子株式会社
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ウェーハパターンの欠陥検出方法及び同装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-041346
出願人:株式会社東芝
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特開昭63-314747
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特開昭63-314747
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走査型電子顕微鏡
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-341691
出願人:株式会社トプコン
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特開昭63-314747
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二重反射電子顕微鏡
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-327990
出願人:フォクスゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
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走査形電子顕微鏡
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-334894
出願人:株式会社日立製作所
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