特許
J-GLOBAL ID：201103046973288613
基板の熱処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
間宮 武雄
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-048104
公開番号（公開出願番号）：特開2002-252180
特許番号：特許第3660254号
出願日： 2001年02月23日
公開日（公表日）： 2002年09月06日
請求項（抜粋）：
【請求項1】少なくとも上部の炉壁が光透過性材料で形成され、内部に基板が搬入されて保持される熱処理炉と、この熱処理炉内に保持された基板の少なくとも上面に対向して配設され、前記光透過性材料で形成された炉壁を通して基板に光を照射して加熱する加熱手段と、を備えた基板の熱処理装置において、前記熱処理炉内に保持された基板と接触または近接する冷却位置と前記熱処理炉の下部炉壁と接触または近接する待機位置との間で往復移動可能に支持された可動冷却板と、この可動冷却板を往復移動させる駆動手段と、前記待機位置において前記可動冷却板と前記熱処理炉の下部炉壁との間に気体を導入する気体導入手段と、前記駆動手段を制御するとともに、その駆動手段により前記可動冷却板を待機位置から冷却位置へ移動させる際に前記気体導入手段を作動させるように制御する制御手段と、をさらに備えたことを特徴とする基板の熱処理装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/26 G
, H01L 21/205
, H01L 21/26 F
