特許
J-GLOBAL ID:201103047336373158
熱的機械的安定金属/多孔質基体複合膜の形成方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (8件):
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 渡邊 隆
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 西 和哉
, 村山 靖彦
, 実広 信哉
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-553048
特許番号:特許第4559009号
出願日: 2001年01月22日
請求項(抜粋):
【請求項1】 多孔質基体の第1面上にめっきされる金属の溶液を流する段階と、
同時に、前記多孔質基体がガスから前記金属の溶液を分離するように、前記第1面とは反対の前記多孔質基体の第2面にガスの圧力を付与する段階と、
を含むことを特徴とする金属めっきされた多孔質基体を製造するための方法
IPC (4件):
C23C 18/31 ( 200 6.01)
, C23C 18/18 ( 200 6.01)
, C23C 18/42 ( 200 6.01)
, H01M 8/06 ( 200 6.01)
FI (4件):
C23C 18/31 A
, C23C 18/18
, C23C 18/42
, H01M 8/06 G
引用特許:
出願人引用 (5件)
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水素分離膜の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-180165
出願人:松下電器産業株式会社
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ガス分離体
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-167669
出願人:日本碍子株式会社
-
金属表面処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-056484
出願人:株式会社椿本チエイン
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水素透過膜及びその作製方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-103695
出願人:東京瓦斯株式会社
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特開平4-221079
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