洗浄処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中本菊彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-258961
公開番号（公開出願番号）：特開2002-136935
特許番号：特許第3643954号
出願日： 2001年08月29日
公開日（公表日）： 2002年05月14日
請求項（抜粋）：

【請求項1】処理室内に、被処理体を回転可能に保持する保持手段と、上記被処理体に所定の洗浄液を供給する第1の洗浄液供給手段とを有する第1の洗浄処理部と、上記保持手段と、上記被処理体に上記第1の洗浄処理部で使用される洗浄液と異なる雰囲気の洗浄液を供給する第2の洗浄液供給手段とを有する第2の洗浄処理部と、上記被処理体を所定位置に搬送し、上記保持手段との間で被処理体を受け渡す搬送手段とを具備し、上記第1の洗浄処理部と第2の洗浄処理部とを上記搬送手段の搬送路によって分離配置してなり、上記処理室と、上記被処理体を収容するカセットの搬入・搬出部との間に、被処理体を受渡しするピンセットを有する被処理体受渡し部を設け、この被処理体受渡し部における上記処理室側に開閉シャッタを設けてなり、上記ピンセットは、基端部と先端部を有する平面板形状の同一水平面上に形成され、かつ、基端部から先端部に向かう中心線に関して両側左右対称位置に形成されると共に、基端部側と先端部側にそれぞれ被処理体の対向する2辺を支持し、一方が被処理体を支持する際には、他方は被処理体に接触しない、未処理の被処理体と処理済みの被処理体を支持する2つの支持面を有することを特徴とする洗浄処理装置。

IPC (2件)：

B08B 3/02 , H01L 21/304

FI (4件)：

B08B 3/02 C , H01L 21/304 643 A , H01L 21/304 648 A , H01L 21/304 651 B

引用特許：

出願人引用 (2件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-301240 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
半導体基板の洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-349014 出願人：オリンパス光学工業株式会社

審査官引用 (2件)

半導体基板の洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-349014 出願人：オリンパス光学工業株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-301240 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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