特許
J-GLOBAL ID：201103050327166264

感放射線性組成物及びスルホンイミド化合物

発明者：
西野 晃太

西野 晃太 について

, 
丸山 研

丸山 研 について


出願人/特許権者：
JSR株式会社

JSR株式会社 について


代理人 (4件)： 渡邉 一平 ,  木川 幸治 ,  佐藤 博幸 ,  小池 成
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-070606
公開番号（公開出願番号）：特開2011-201810
出願日： 2010年03月25日
公開日（公表日）： 2011年10月13日
要約：
【課題】KrFエキシマレーザー、ArFエキシマレーザー、EUV等の(極)遠紫外線、シンクロトロン放射線等のX線、電子線に有効に感応し、感度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能な化学増幅型ポジ型レジスト膜を成膜することができる感放射線性組成物を提供すること。【解決手段】一般式(1)で表されるスルホンイミド化合物と、酸解離性基含有化合物と、溶剤と、を含有する感放射線性組成物である。 (一般式(1)中、M+は一価のオニウムカチオンを示し、Yは、カルボニル基等を示し、Ra及びRbは、相互に独立に、炭素数1〜12の直鎖状又は分岐状のアルキル基等を示す。)【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)で表されるスルホンイミド化合物と、 酸解離性基含有化合物と、 溶剤と、を含有する感放射線性組成物。
IPC (7件)：
C07C 381/12 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  C07C 303/34 ,  C08F 12/22 ,  C08F 20/10 ,  H01L 21/027
FI (7件)：
C07C381/12 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  C07C303/34 ,  C08F12/22 ,  C08F20/10 ,  H01L21/30 502R
Fターム (35件)：
2H125AF17P ,  2H125AF32P ,  2H125AF35P ,  2H125AF36P ,  2H125AF70P ,  2H125AH17 ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ48Y ,  2H125AN39P ,  2H125AN57P ,  2H125AN63P ,  2H125BA01P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB16 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  4H006AA01 ,  4H006AB92 ,  4J100AB07Q ,  4J100AL08P ,  4J100BA04Q ,  4J100BA05Q ,  4J100BA06Q ,  4J100BA14Q ,  4J100BC01Q ,  4J100BC02Q ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC08P ,  4J100BC09P ,  4J100BC12P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (10件)
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