特許
J-GLOBAL ID:200903053705401715
ポジ型感放射線性樹脂組成物
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
和気 操
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-304946
公開番号(公開出願番号):特開2007-114431
出願日: 2005年10月19日
公開日(公表日): 2007年05月10日
要約:
【課題】ラフネス、エッチング耐性、感度、解像度に優れ、微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができ、電子線または極紫外線に有効に感応するEB、EUV用として好適な化学増幅型ポジ型の感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】放射線が照射されることにより酸を発生する感放射線性酸発生剤(A)と、アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性であって酸の作用によりアルカリ易溶性となる酸解離性基含有樹脂(B)と、酸の作用により連鎖反応的に酸を発する酸増殖剤(C)と、放射線が照射されることにより塩基性を失う感光性塩基性化合物(D)とを含み、酸増殖剤(C)が炭素環骨格に下記式(1)で表されるスルホナート基を有する化合物である。【選択図】図1
請求項(抜粋):
放射線が照射されることにより酸を発生する感放射線性酸発生剤(A)と、アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性であって酸の作用によりアルカリ易溶性となる酸解離性基含有樹脂(B)と、酸の作用により連鎖反応的に酸を発する酸増殖剤(C)と、放射線が照射されることにより塩基性を失う感光性塩基性化合物(D)とを含むことを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物。
IPC (3件):
G03F 7/004
, G03F 7/039
, H01L 21/027
FI (4件):
G03F7/004 503
, G03F7/004 501
, G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
Fターム (15件):
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AA09
, 2H025AC03
, 2H025AC06
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB14
, 2H025CB16
, 2H025CB41
, 2H025CC20
, 2H025FA17
引用特許:
出願人引用 (14件)
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審査官引用 (5件)
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化学増幅型ポジ型レジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-078355
出願人:住友化学工業株式会社
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化学増幅型ポジ型レジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-092325
出願人:市村國宏, 有限会社日本ケミックス, 住友化学工業株式会社
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感放射線性樹脂組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-229160
出願人:ジェイエスアール株式会社
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深紫外線用のフォトレジスト組成物
公報種別:公表公報
出願番号:特願2001-544083
出願人:クラリアント・インターナシヨナル・リミテッド
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レジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-270932
出願人:富士写真フイルム株式会社
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