液晶パネルの製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岡本啓三
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-072272
公開番号（公開出願番号）：特開2000-267135
特許番号：特許第4372260号
出願日： 1999年03月17日
公開日（公表日）： 2000年09月29日
請求項（抜粋）：

【請求項1】アクティブマトリクス方式の液晶パネルの製造方法において、マスタTFT基板を複数のブロックに区画し、更に各ブロックを1又は複数のデバイス形成領域に区画して、前記デバイス形成領域にTFT(薄膜トランジスタ)となる導電膜、絶縁膜及び半導体膜を形成するアレイ工程と、前記マスタTFT基板を前記ブロック毎に切断して複数のサブTFT基板とする1次カット工程と、各サブTFT基板に、製造するデバイスの品種によって異なる加工を実施するサブTFT基板加工工程と、前記サブTFT基板を前記デバイス形成領域毎に切断する2次カット工程とを有し、前記マスタTFT基板からサイズが異なる複数の液晶パネルを製造することを特徴とする液晶パネルの製造方法。

IPC (2件)：