特許
J-GLOBAL ID：201103050538285120

タイヤ解析システムおよびタイヤ解析方法

発明者：
花田 亮治

花田 亮治 について

, 
瀬戸 秀樹

瀬戸 秀樹 について


出願人/特許権者：
横浜ゴム株式会社

横浜ゴム株式会社 について


代理人 (2件)： 酒井 宏明 ,  高村 順
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-172476
公開番号（公開出願番号）：特開2011-027509
出願日： 2009年07月23日
公開日（公表日）： 2011年02月10日
要約：
【課題】安価な撮像装置を用いてタイヤ表面歪みの変化を測定できるタイヤ解析システムおよびタイヤ解析方法を提供すること。【解決手段】このタイヤ解析システム1は、所定の試験条件を入力したときのタイヤ形状の変化やタイヤ表面歪みの変化を測定することによりタイヤの挙動解析を行うシステムである。このタイヤ解析システム1は、タイヤ表面の一部にタイヤ周方向に沿って配列された複数の解析用格子面Sを相互に異なる方向から同時に撮像する複数のカメラ31、31と、これらのカメラ31、31から取得した画像データに基づき解析用格子面Sの三次元座標を算出すると共にこの三次元座標に基づきタイヤ表面歪みの変化を算出する処理装置4とを備えている。そして、タイヤ10が回転して解析用格子面Sが所定の撮像位置に来たときに、カメラ31、31が解析用格子面Sを撮像している。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
所定の試験条件を入力したときのタイヤ形状の変化やタイヤ表面歪みの変化を測定することによりタイヤの挙動解析を行うタイヤ解析システムであって、 タイヤ表面の一部にタイヤ周方向に沿って配列された複数の解析用格子面を相互に異なる方向から同時に撮像する複数のカメラと、前記カメラから取得した画像データに基づき前記解析用格子面の三次元座標を算出すると共に前記三次元座標に基づきタイヤ表面歪みの変化を算出する処理装置とを備え、且つ、タイヤが回転して前記解析用格子面が所定の撮像位置に来たときに前記カメラが前記解析用格子面を撮像することを特徴とするタイヤ解析システム。
IPC (4件)：
G01M 17/02 ,  G01B 11/16 ,  G01B 11/245 ,  B60C 19/00
FI (4件)：
G01M17/02 B ,  G01B11/16 H ,  G01B11/245 H ,  B60C19/00 H
Fターム (21件)：
2F065AA04 ,  2F065AA53 ,  2F065AA65 ,  2F065BB05 ,  2F065BB16 ,  2F065BB27 ,  2F065CC13 ,  2F065FF04 ,  2F065FF65 ,  2F065GG02 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ08 ,  2F065JJ26 ,  2F065MM04 ,  2F065PP13 ,  2F065PP18 ,  2F065QQ25 ,  2F065SS03 ,  2F065SS13
引用特許：
出願人引用 (20件)
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審査官引用 (20件)
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引用文献：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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