基準マーク構造体、その製造方法及びそれを用いた荷電粒子線露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：特許業務法人オカダ・フシミ・ヒラノ , 細江利昭
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-055367
公開番号（公開出願番号）：特開2000-252204
特許番号：特許第4505662号
出願日： 1999年03月03日
公開日（公表日）： 2000年09月14日
請求項（抜粋）：

【請求項1】荷電粒子線露光装置の試料ステージ上に設置され、装置の較正又はマスクアライメントに使用される基準マーク構造体であって、熱膨張係数10-7/°C以下の材料で構成され、上面、側面及び下面を有する下地基板と、前記下地基板の上面に設けられ、重金属の薄膜で形成された基準マークと、前記下地基板の側面及び下面を含む表面が露出しないように、前記下地基板の前記表面のうち前記重金属の薄膜が設けられていない面を覆い、かつ前記重金属の薄膜とは材質が異なる導電性の薄膜とを備えることを特徴とする基準マーク構造体。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ( 200 6.01) , G03F 1/08 ( 200 6.01) , G03F 7/20 ( 200 6.01) , G03F 9/00 ( 200 6.01)

FI (4件)：

H01L 21/30 541 K , G03F 1/08 C , G03F 7/20 504 , G03F 9/00 H

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開昭61-269312
特開昭58-066330
特開昭61-101027

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審査官引用 (5件)

特開昭61-269312
特開昭58-066330
特開昭61-101027

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