特許

J-GLOBAL ID：201103054843322650

化学気相堆積用リアクタ

発明者： コアイ, キース ,  ジョンソン, マーク ,  チャン, メイ ,  レイ, ローレンス, チャン, ライ
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (3件)： 長谷川 芳樹 ,  尾関 孝彰 ,  山田 行一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-531602
特許番号：特許第4511722号
出願日： 1999年02月09日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 基板を支持する台を含む反応チャンバと、前記台の反対側にありその上方に平行に設けられ、複数の貫通孔と、前記孔の、前記台とは反対方向である上方、かつ外側に延びるリムを有するシャワーヘッド面板部材であって、前記孔は前記シャワーヘッド面板部材を含むシャワーヘッドアセンブリ内から前記基板に隣接する処理領域へ処理ガスを輸送する、シャワーヘッド面板部材と、底側では前記シャワーヘッド面板部材に固定され、上側では冷却液を通す渦巻き型の経路が形成された冷却板と、 前記シャワーヘッド面板部材を前記反応チャンバの側壁から電気的に絶縁するリッドアイソレータを備え、前記冷却板と前記シャワーヘッド面板部材との接触箇所が前記リッドアイソレータの上部にまで及ぶ化学気相堆積装置。

IPC (3件)：

C23C 16/455 ( 200 6.01) ,  H01L 21/205 ( 200 6.01) ,  H01L 21/285 ( 200 6.01)

FI (3件)：

C23C 16/455 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/285 C

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭63-246829
  
• 原料またはガスの供給装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-301013   出願人：富士通株式会社
• シリコン酸化膜の成膜方法およびCVD装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-217037   出願人：日立電子エンジニアリング株式会社, 株式会社日立製作所