特許

J-GLOBAL ID：201103055300961854

金属構造体含有高分子膜、金属構造体含有高分子膜の製造方法、パターン構造体の製造方法

発明者： 久保 亘 ,  山内 一浩 ,  山田 憲司 ,  熊谷 麻美子 ,  熊谷 杏子 ,  伊藤 俊樹 ,  掛川 法重
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 阿部 琢磨 ,  黒岩 創吾
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-279914
公開番号（公開出願番号）：特開2010-285686
出願日： 2009年12月09日
公開日（公表日）： 2010年12月24日
要約：

【課題】 微細なパターンを有するパターン構造体を製造できるパターン構造体の製造方法、前記パターン構造体を製造する際に用いることができる金属構造体含有高分子膜およびその製造方法を提供する。【解決手段】 イオン伝導性ドメインと非イオン伝導性ドメインとからなるミクロ相分離構造を有する高分子膜と、前記イオン伝導性ドメインに局在する金属構造体と、からなることを特徴とする金属構造体含有高分子膜。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

イオン伝導性セグメントと非イオン伝導性セグメントとを有するブロック共重合体からなり、イオン伝導性ドメインと非イオン伝導性ドメインからなるミクロ相分離構造を有する高分子膜と、前記イオン伝導性ドメインに局在する金属構造体と、からなることを特徴とする金属構造体含有高分子膜。

IPC (5件)：

C25D 5/56 ,  C08F 293/00 ,  C23C 18/20 ,  C23C 18/30 ,  C23C 18/16

FI (5件)：

C25D5/56 C ,  C08F293/00 ,  C23C18/20 Z ,  C23C18/30 ,  C23C18/16 A

Fターム (46件)：

4J026HA08 ,  4J026HA11 ,  4J026HA28 ,  4J026HA39 ,  4J026HA50 ,  4J026HB06 ,  4J026HB28 ,  4J026HB39 ,  4J026HB45 ,  4J026HE02 ,  4J100AB02Q ,  4J100AB07P ,  4J100AL03P ,  4J100BA05P ,  4J100BA56H ,  4J100CA31 ,  4J100DA56 ,  4J100HA61 ,  4J100HB20 ,  4J100HC71 ,  4J100HE05 ,  4J100HG03 ,  4J100JA32 ,  4J100JA43 ,  4K022AA13 ,  4K022AA43 ,  4K022BA03 ,  4K022BA08 ,  4K022CA04 ,  4K022CA06 ,  4K022CA17 ,  4K022DA01 ,  4K022DA03 ,  4K022EA04 ,  4K024AA03 ,  4K024AA07 ,  4K024AA10 ,  4K024AB08 ,  4K024BA12 ,  4K024BB07 ,  4K024BB09 ,  4K024CA01 ,  4K024CA04 ,  4K024CA06 ,  4K024DB10 ,  4K024GA16

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 高分子電解質、その製造方法、膜電極接合体及び燃料電池
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-161525   出願人：キヤノン株式会社
• 複合部材、複合部材の製造方法、および複合部材形成用材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-080846   出願人：株式会社東芝
• パターン形成材料、多孔質構造体の製造方法、パターン形成方法、電気化学セル、中空糸フィルター、多孔質カーボン構造体の製造方法、キャパシタの製造方法、および燃料電池の触媒層の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-169263   出願人：株式会社東芝
• 高分子電解質膜、その製造方法、高分子電解質、電解質組成物、膜電極接合体及び燃料電池
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-203819   出願人：キヤノン株式会社