特許
J-GLOBAL ID:201103055399765580

ホウ素含有排水の処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 棚井 澄雄 ,  森 隆一郎 ,  松尾 直樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-093556
公開番号(公開出願番号):特開2011-218338
出願日: 2010年04月14日
公開日(公表日): 2011年11月04日
要約:
【課題】ホウ素を吸着したイオン交換樹脂やイオン交換繊維などの吸着材から、塩酸を用いてホウ素を溶離させた排水のように、反応工程において、塩化物イオンが高濃度で存在する場合であっても、効率的で、かつ、汚泥発生量も低減することができるホウ素含有排水の処理方法を提供する。【解決手段】ホウ素を500mg/L以上含むホウ素含有排水に、アルミニウム塩およびpH調整剤を添加して不溶性析出物が分散した反応液を形成させる反応工程と、反応液中の不溶性析出物を分離し、処理水を取り出す固液分離工程とを有し、反応工程において、(1)〜(4)の条件を全て満たす。(1)反応液のCl-濃度がホウ素濃度以上;(2)反応液のAl3+濃度がホウ素濃度以上;(3)反応液のCa2+濃度とSO42-濃度の合計がAl3+濃度の5倍以下;(4)反応液のpHが5〜11。【選択図】図1
請求項(抜粋):
ホウ素を500mg/L以上含むホウ素含有排水に、アルミニウム塩およびpH調整剤を添加して不溶性析出物が分散した反応液を形成させる反応工程と、前記反応液中の不溶性析出物を分離し、処理水を取り出す固液分離工程と、を有するホウ素含有排水の処理方法であって、 前記反応工程において、以下の(1)〜(4)の条件を全て満たすことを特徴とするホウ素含有排水の処理方法。 (1)前記反応液における塩化物イオン濃度がホウ素濃度以上 (2)前記反応液におけるアルミニウムイオン濃度がホウ素濃度以上 (3)前記反応液におけるカルシウムイオン濃度と硫酸イオン濃度の合計がアルミニウムイオン濃度の5倍以下 (4)前記反応液のpHが5〜11
IPC (7件):
C02F 1/58 ,  C02F 1/28 ,  C02F 1/42 ,  B01J 49/00 ,  B01J 41/12 ,  B01J 45/00 ,  B01J 47/02
FI (10件):
C02F1/58 H ,  C02F1/28 A ,  C02F1/42 E ,  C02F1/42 H ,  B01J49/00 M ,  B01J49/00 G ,  B01J49/00 H ,  B01J41/12 Z ,  B01J45/00 J ,  B01J47/02 F
Fターム (29件):
4D025AA09 ,  4D025AB33 ,  4D025BA13 ,  4D025BA17 ,  4D025BA25 ,  4D025BB07 ,  4D025DA02 ,  4D025DA05 ,  4D038AA08 ,  4D038AB25 ,  4D038BA02 ,  4D038BA04 ,  4D038BB13 ,  4D038BB17 ,  4D038BB18 ,  4D624AA04 ,  4D624AB14 ,  4D624BA01 ,  4D624BA16 ,  4D624BA17 ,  4D624BB02 ,  4D624BC01 ,  4D624CA01 ,  4D624DA07 ,  4D624DB03 ,  4D624DB05 ,  4D624DB19 ,  4D624DB20 ,  4D624DB21
引用特許:
審査官引用 (6件)
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