特許
J-GLOBAL ID：201103055741039667
プロトン伝導性材料、プロトン伝導性膜およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (4件)：
鈴木 俊一郎
, 牧村 浩次
, 高畑 ちより
, 鈴木 亨
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-329215
公開番号（公開出願番号）：特開2003-132732
特許番号：特許第3881213号
出願日： 2001年10月26日
公開日（公表日）： 2003年05月09日
請求項（抜粋）：
【請求項1】平均粒径が10μm以下のホスホシリケートゲルとポリイミドとからなり、前記ポリイミドが、ポリイミドとホスホシリケートゲルとの合計量に対して、10〜75重量部の量で含まれることを特徴とするプロトン伝導材料。
IPC (9件)：
H01B 1/06 ( 200 6.01)
, C01B 33/00 ( 200 6.01)
, C08J 5/18 ( 200 6.01)
, C08L 79/08 ( 200 6.01)
, C09D 179/08 ( 200 6.01)
, C09D 183/02 ( 200 6.01)
, H01B 13/00 ( 200 6.01)
, H01M 8/02 ( 200 6.01)
, H01M 8/10 ( 200 6.01)
H01B 1/06 A
, C01B 33/00
, C08J 5/18 CFG
, C08L 79/08 Z
, C09D 179/08 Z
, C09D 183/02
, H01B 13/00 Z
, H01M 8/02 P
, H01M 8/10
