基板処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：川崎実夫 , 稲岡耕作
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-118579
公開番号（公開出願番号）：特開2002-313772
特許番号：特許第3808719号
出願日： 2001年04月17日
公開日（公表日）： 2002年10月25日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基板に処理液を用いた処理を施す基板処理装置であって、基板をほぼ水平に保持して回転させる基板保持回転手段と、この基板保持回転手段に保持された基板の側方を取り囲むように設けられており、基板から周囲に飛散する処理液を捕獲するための飛沫捕獲手段と、この飛沫捕獲手段に取り付けられており、上記基板保持回転手段に保持された基板に対して、平面視で基板の外方から処理液を供給するための処理液供給手段と、上記飛沫捕獲手段を所定の上方位置と下方位置との間で昇降させる昇降駆動手段とを備え、上記処理液供給手段は、上記飛沫捕獲手段が上記上方位置に上昇した状態で予め定める第1の処理液を基板に供給する第1ノズルと、上記飛沫捕獲手段が上記下方位置に下降した状態で上記第1の処理液とは成分の異なる第2の処理液を基板に供給する第2ノズルとを含み、上記第2ノズルおよび上記第1ノズルは、上記飛沫捕獲手段の上記上方位置と上記下方位置との高低差に等しい間隔を空けて、上下に並べて取り付けられていることを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 ( 200 6.01) , B08B 3/02 ( 200 6.01)

FI (3件)：

H01L 21/304 651 B , H01L 21/304 643 A , B08B 3/02 C

引用特許：

出願人引用 (4件)

スピン処理装置及びその方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-243056 出願人：芝浦メカトロニクス株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-333984 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開平2-051229

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審査官引用 (4件)

スピン処理装置及びその方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-243056 出願人：芝浦メカトロニクス株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-333984 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開平2-051229

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