薬液塗布方法とその装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：森義明
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-367514
公開番号（公開出願番号）：特開2001-179160
特許番号：特許第4043163号
出願日： 1999年12月24日
公開日（公表日）： 2001年07月03日
請求項（抜粋）：

【請求項1】載置された角形基板を回転させる回転チャックと、前記角形基板上に薬液を供給するための薬液供給部と、前記回転チャックに載置された前記角形基板を覆うためのものであって、前記回転チャックの直上に気体流入孔が穿設されており、前記気体流入孔から前記角形基板側に導入されたクリーンエアにて前記角形基板の中心側から周縁方向に流れる気流を作り出すフードと、前記回転チャックの下方に配設され、外周部に側壁を有する液受けプレートと、前記液受けプレートの下方に配設され、外周部に側壁を有し、前記液受けプレートからこぼれた前記薬液の受け皿部分を形成する下部ベースと、前記下部ベースの側壁の上端内周に配設され、下方に行くに従って外方に拡径するリング状の第1カバーと、前記第1カバーの内側に配設され、外周部に側壁を有し、前記回転チャックの上方に開口された大径孔を有するリング状の第2カバーとを備え、前記液受けプレートの側壁は前記第1カバーの側壁と前記第2カバーの側壁との間に配設されており、前記下部ベースの側壁の上端近傍には1乃至複数の排気孔が形成されており、前記フード内に流入した前記クリーンエアが、前記角形基板の中心側から周縁方向に流れ、前記第2カバーの下縁を潜り、前記液受けプレートの前記側壁の上縁を越え、前記第1カバーの下縁を潜って前記下部ベースの前記側壁に沿って上り、前記側壁の前記排気孔から外部に流出する事を特徴とする薬液塗布装置。

IPC (6件)：

B05C 11/08 ( 200 6.01) , B05D 1/40 ( 200 6.01) , B05D 7/00 ( 200 6.01) , G03F 7/16 ( 200 6.01) , G03F 7/30 ( 200 6.01) , H01L 21/027 ( 200 6.01)

FI (6件)：

B05C 11/08 , B05D 1/40 A , B05D 7/00 H , G03F 7/16 502 , G03F 7/30 502 , H01L 21/30 564 C

引用特許：

審査官引用 (2件)

塗布装置および塗布方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-131118 出願人：アルプス電気株式会社
基板の液処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-142629 出願人：日立電子エンジニアリング株式会社

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