特許
J-GLOBAL ID：201103056026703211

塩及びレジスト組成物

発明者：
市川 幸司

市川 幸司 について

, 
落合 光良

落合 光良 について

, 
金 亨柱

金 亨柱 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (2件)： 中山 亨 ,  坂元 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-029470
公開番号（公開出願番号）：特開2011-190247
出願日： 2011年02月15日
公開日（公表日）： 2011年09月29日
要約：
【課題】優れたラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができるレジスト組成物の酸発生剤用の塩を提供する。【解決手段】式(I)で表される塩。[式(I)中、R1及びR2は、互いに独立に、フッ素原子又はC1〜C6ペルフルオロアルキル基を表す。X1は、2価のC1〜C17飽和炭化水素基を表し、前記2価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよく、前記2価の飽和炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-で置き換わっていてもよい。Z1+は、有機対イオンを表す。]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(I)で表される塩。
IPC (5件)：
C07D 275/06 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  C07C 381/12 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
C07D275/06 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  C07C381/12 ,  H01L21/30 502R
Fターム (29件)：
2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF21P ,  2H125AF26P ,  2H125AF38P ,  2H125AF70P ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4C033AA10 ,  4C033AA12 ,  4C033AA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB78
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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