化学増幅型フォトレジスト組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：中山亨 , 坂元徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-245301
公開番号（公開出願番号）：特開2010-140014
出願日： 2009年10月26日
公開日（公表日）： 2010年06月24日
要約：

【課題】優れた形状及びラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができる化学増幅型フォトレジスト組成物等を提供する。【解決手段】式(I)で表される酸発生剤及び式(II)で表される構造単位を有する樹脂を含有する化学増幅型フォトレジスト組成物。[Q1及びQ2は、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。X0は、2価のC1-17飽和炭化水素基を表す。Y1は、炭素数3〜36の飽和環状炭化水素基を表す。R1は、水素原子又はメチル基を表す。X2は、単結合又は-[CH2]k-を表す。kは、1〜8の整数を表す。Y2は、炭素数4〜36の飽和環状炭化水素基を表す。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(I)で表される酸発生剤及び式(II)で表される構造単位を有する樹脂を含有する化学増幅型フォトレジスト組成物。

IPC (8件)：

G03F 7/039 , G03F 7/004 , G03F 7/38 , C07C 381/12 , C07C 309/17 , C07C 309/12 , C08F 20/10 , H01L 21/027

FI (8件)：

G03F7/039 601 , G03F7/004 503A , G03F7/38 511 , C07C381/12 , C07C309/17 , C07C309/12 , C08F20/10 , H01L21/30 502R

Fターム (67件)：

2H096AA25 , 2H096BA11 , 2H096DA04 , 2H096EA03 , 2H096EA05 , 2H096EA23 , 2H096FA01 , 2H096GA08 , 2H096JA02 , 2H096JA03 , 2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF21P , 2H125AF36P , 2H125AF38P , 2H125AF70P , 2H125AH17 , 2H125AH19 , 2H125AH23 , 2H125AJ14X , 2H125AJ64X , 2H125AJ65X , 2H125AJ69X , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN45P , 2H125AN54P , 2H125AN65P , 2H125BA02P , 2H125BA26P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 2H125FA03 , 4H006AA01 , 4H006AB76 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL08S , 4J100AL08T , 4J100BA03S , 4J100BA11Q , 4J100BA11R , 4J100BA15Q , 4J100BA15R , 4J100BA16P , 4J100BA40P , 4J100BC03P , 4J100BC04S , 4J100BC08P , 4J100BC09P , 4J100BC09S , 4J100BC12P , 4J100BC26P , 4J100BC27P , 4J100BC53Q , 4J100BC53R , 4J100BC84T , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100DA01 , 4J100FA03 , 4J100FA19 , 4J100JA37 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (6件)

化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-292108 出願人：住友化学株式会社
新規な化合物およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-331163 出願人：東京応化工業株式会社
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物および酸発生剤
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-228619 出願人：東京応化工業株式会社

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