特許
J-GLOBAL ID:201103056962231771
円盤型分析チップおよびそれを用いた測定システム
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (7件):
深見 久郎
, 森田 俊雄
, 仲村 義平
, 堀井 豊
, 酒井 將行
, 荒川 伸夫
, 佐々木 眞人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-230818
公開番号(公開出願番号):特開2011-080769
出願日: 2009年10月02日
公開日(公表日): 2011年04月21日
要約:
【課題】回転による遠心力を変化させることにより多段階送液のプロファイルをより厳密に制御することのできる円盤型分析チップ、および、それを用いた簡便な測定システムを提供すること。【解決手段】本発明は、円盤型分析チップを遠心装置上に配置し、前記遠心装置の回転により生じる遠心力を利用して円盤型分析チップ上のサンプルを移動させ、試薬と反応させた後に測定を行う測定システムに用いられる円盤型分析チップであって、前記円盤型分析チップの表面に、サンプル槽、該サンプル槽に対して円盤型分析チップの外周部方向に設けられた反応槽、該反応槽に対して円盤型チップの外周部方向に設けられた測定槽、前記サンプル導入槽と前記反応槽とを接続する第1の流路、および、前記反応槽と前記測定槽とを接続する第2の流路を備え、前記第1の流路の断面積が前記第2の流路の断面積よりも大きいことを特徴とする、円盤型分析チップである。【選択図】図2
請求項(抜粋):
円盤型分析チップを遠心装置上に配置し、前記遠心装置の回転により生じる遠心力を利用して円盤型分析チップ上のサンプルを移動させ、試薬と反応させた後に測定を行う測定システムに用いられる円盤型分析チップであって、
前記円盤型分析チップの表面に、サンプル槽、該サンプル槽に対して円盤型分析チップの外周部方向に設けられた反応槽、該反応槽に対して円盤型チップの外周部方向に設けられた測定槽、前記サンプル導入槽と前記反応槽とを接続する第1の流路、および、前記反応槽と前記測定槽とを接続する第2の流路を備え、
前記第1の流路の断面積が前記第2の流路の断面積よりも大きいことを特徴とする、円盤型分析チップ。
IPC (2件):
FI (2件):
G01N35/00 D
, G01N37/00 101
Fターム (6件):
2G058CC03
, 2G058CC08
, 2G058CD04
, 2G058DA07
, 2G058EA14
, 2G058GA02
引用特許:
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