磁気記録媒体およびその製造方法、これを用いた磁気記録装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井上学
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-026246
公開番号（公開出願番号）：特開2002-230739
特許番号：特許第4072321号
出願日： 2001年02月02日
公開日（公表日）： 2002年08月16日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基板上に、下地層、磁性層、保護層及び潤滑層をこの順に少なくとも形成する磁気記録媒体の製造方法において、前記保護層は少なくとも、非晶質硬質水素炭化膜を成膜する第一の工程と、その後前記非晶質硬質水素炭化膜の表面にN(窒素)を加速電圧150eV以下のイオンビームガンを用いて処理する第二の工程と、により形成されることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。

IPC (2件)：