特許

J-GLOBAL ID：201103057070475583

回転電極のドライクリーニング装置及びプラズマ処理装置

発明者： 釘宮 敏洋 ,  林 和志 ,  石橋 清隆 ,  小林 明 ,  後藤 裕史 ,  岡田 和人 ,  中上 明光 ,  森 勇藏
出願人/特許権者： 株式会社神戸製鋼所 ,  森 勇蔵
代理人 (3件)： 小谷 悦司 ,  植木 久一 ,  村松 敏郎
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-381810
公開番号（公開出願番号）：特開2002-184704
特許番号：特許第3670578号
出願日： 2000年12月15日
公開日（公表日）： 2002年06月28日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 放電発生用電圧が印加され、対向電極との間の処理用狭隙間でグロー放電によるプラズマを発生させて反応ガスを分解させる回転電極をドライクリーニングするためのものであって、 該回転電極の周囲であり、該対向電極から回転電極の周方向に外れた位置に、該回転電極との間にクリーニング用狭隙間を形成する第2対向電極と、 該クリーニング用狭隙間にクリーニングガスを存在させる雰囲気調整手段と、 前記回転電極、前記対向電極及び前記第2対向電極を内部に含む容器とを具備し、 前記雰囲気調整手段は、 該容器内の空間を、該クリーニング用狭隙間を含む第1空間と該処理用狭隙間を含む第2空間とに隔て、かつ回転電極との間に狭隙間を有する状態で設けられた絶縁性の隔壁部材と、 該第1空間内にクリーニングガスを導入するための導入管と、 該第1空間内を排気するための排気管とを備え、 前記第1空間の圧力が前記第2空間の圧力よりも小さいことを特徴とする回転電極のドライクリーニング装置。

IPC (4件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/44 ,  H01L 21/3065 ,  H05H 1/24

FI (4件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/44 J ,  H05H 1/24 ,  H01L 21/302 N

引用特許：

出願人引用 (4件)

• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-020715   出願人：ティーディーケイ株式会社, 森勇藏
• 回転電極を用いた高速成膜方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-201722   出願人：三洋電機株式会社, 森勇藏
• 薄膜形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-055220   出願人：株式会社神戸製鋼所, ティーディーケイ株式会社, 森勇藏
• 表面処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-381811   出願人：株式会社神戸製鋼所, 森勇藏

審査官引用 (2件)

• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-020715   出願人：ティーディーケイ株式会社, 森勇藏
• 回転電極を用いた高速成膜方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-201722   出願人：三洋電機株式会社, 森勇藏