プラズマ処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：石井陽一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-020715
公開番号（公開出願番号）：特開2001-214275
出願日： 2000年01月28日
公開日（公表日）： 2001年08月07日
要約：

【要約】【課題】回転電極を用いるプラズマ処理装置において、プラズマ生成領域付近に反応ガスを効率的に閉じ込めることを可能とする。【解決手段】ロール状の回転電極1を反応容器10内に有し、回転電極1に高周波または直流電力を印加することにより回転電極1近傍にプラズマ4を発生させ、このプラズマ4を利用して、回転電極1周面に対向して配置した基板2上への薄膜の堆積、前記基板2の処理および回転電極1周面のクリーニングから選択される少なくとも1種のプラズマ処理を行うプラズマ処理装置であって、回転電極1の周面と、反応容器10の壁面と、これらの間に設けられた2つの遮断部材5、6とにより、基板2近傍の空間が区画されて処理空間20A、20Bを形成しており、前記遮断部材5、6が、回転電極1周面と接するローラ51A、51B、61を含むプラズマ処理装置。

請求項（抜粋）：

ロール状であってその軸方向を回転軸として回転する回転電極を反応容器内に有し、回転電極に高周波または直流電力を印加することにより回転電極近傍にプラズマを発生させ、このプラズマを利用して、回転電極周面に対向して配置した基板上への薄膜の堆積、前記基板の処理および回転電極周面のクリーニングから選択される少なくとも1種のプラズマ処理を行うプラズマ処理装置であって、回転電極の周面と、反応容器の壁面と、これらの間に設けられた2つの遮断部材とにより、基板近傍の空間が区画されて処理空間を形成しており、前記遮断部材が、回転電極周面と接するローラを含むプラズマ処理装置。

IPC (4件)：

C23C 16/503 , C23C 16/505 , H01L 21/205 , C23F 4/00

FI (4件)：

C23C 16/503 , C23C 16/505 , H01L 21/205 , C23F 4/00 A

Fターム (17件)：

4K030AA04 , 4K030AA05 , 4K030AA06 , 4K030BA30 , 4K030FA01 , 4K030KA16 , 4K030KA30 , 4K057DA01 , 4K057DA20 , 4K057DD01 , 4K057DM06 , 4K057DM37 , 5F045AA08 , 5F045BB14 , 5F045DP03 , 5F045EB06 , 5F045EF17

引用特許：

出願人引用 (8件)

高密度プラズマ反応装置および高密度プラズマ反応方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-307765 出願人：シャープ株式会社, 森勇藏
成膜装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-203168 出願人：株式会社神戸製鋼所, 森勇藏
回転電極を用いた薄膜形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-344813 出願人：三洋電機株式会社, 森勇藏

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