半導体露光方法及び露光装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：石田敬 , 土屋繁 , 戸田利雄 , 西山雅也 , 樋口外治
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-096419
公開番号（公開出願番号）：特開2000-294484
特許番号：特許第4212181号
出願日： 1999年04月02日
公開日（公表日）： 2000年10月20日
請求項（抜粋）：

【請求項1】ステージの表面に固定された平面状試料の表面の高さを測定し、露光位置の高さを管理した上で露光を行う半導体露光方法において、複数枚の前記平面状試料を順次露光する時に、前記平面状試料毎に少なくとも一部は異なる位置で高さ測定を行う測定工程と、複数枚の前記平面状試料の異なる位置での高さ測定結果を蓄積し、前記高さ測定結果は前記平面状試料の全面にわたり、前記複数枚の前記平面状試料の高さ測定結果から前記ステージの表面の全面にわたる高さ分布を算出する分布算出工程と、前記ステージの表面の高さ分布に基づいて管理を行う高さ分布管理工程とを備えることを特徴とする半導体露光方法。

IPC (2件)：