特許
J-GLOBAL ID：201103057326317620

プラズマ処理チャンバ内で開放プラズマを実質的に排除するためのフォーカスリング構成

発明者：
レンズ・エリック・エイチ.

レンズ・エリック・エイチ. について


出願人/特許権者：
ラム リサーチ コーポレーション

ラム リサーチ コーポレーション について


代理人 (4件)： 五十嵐 孝雄 ,  下出 隆史 ,  市川 浩 ,  加藤 光宏
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-557485
特許番号：特許第4598271号
出願日： 1999年06月22日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 プラズマ処理チャンバのチャックを実質的に取り囲むように構成されたフォーカスリングアセンブリであって、 環状の誘電体と、 前記プラズマ処理チャンバ内で電気的にアースされるように構成され、前記環状の誘電体を取り囲む導電性のシールドと、を備え、 前記導電性のシールドは、 前記環状の誘電体の外側に配置されて、前記環状の誘電体の少なくとも一部を取り囲む筒状部と、 前記筒状部と電気的に接触し、前記環状の誘電体内に埋め込まれている、内向きに突出したフランジ部と、を備えるフォーカスリングアセンブリ。
IPC (5件)：
H01L 21/3065 ( 200 6.01) ,  C23C 16/52 ( 200 6.01) ,  H01J 37/32 ( 200 6.01) ,  H01L 21/205 ( 200 6.01) ,  H05H 1/46 ( 200 6.01)
FI (5件)：
H01L 21/302 101 G ,  C23C 16/52 ,  H01J 37/32 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46 M
引用特許：
審査官引用 (7件)
  • プラズマ処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-145785   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社
  • 特開平4-279044
  • 特開平4-279044
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