テトラキス(ジアリールシリル)ベンゼンの製造方法

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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-221441
公開番号（公開出願番号）：特開2001-048887
特許番号：特許第3564530号
出願日： 1999年08月04日
公開日（公表日）： 2001年02月20日
請求項（抜粋）：

【請求項1】一般式(1);;化1::(式中、R1は、電子供与性置換基を有するフェニル基を表す。)で表される、テトラキス(ジアリールシリル)ベンゼンを製造するに際して、一般式(2);;化2::(式中、Xはハロゲンを表す。)で表される、テトラハロベンゼンを一般式(3);;化3::(式中、Zはハロゲンを表し、R1は、電子供与性置換基を有するフェニル基を表す。)で表されるハロシラン類を用い、まずマグネシウム共存下でシリル化反応を行い、次いで有機リチウム試薬共存下でさらにシリル化反応させることを特徴とする前記テトラキス(ジアリールシリル)ベンゼンの製造方法。

IPC (1件)：