特許
J-GLOBAL ID：201103058006920014
セラミックスヒーターならびにそれを用いた基板処理装置および基板処理方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高山 宏志
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-341916
公開番号（公開出願番号）：特開2001-160479
特許番号：特許第4209057号
出願日： 1999年12月01日
公開日（公表日）： 2001年06月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 上面が基板の載置面であり、一体として設けられたセラミックス製の基体と、
前記基体に埋設された発熱体と、
前記基体の前記発熱体の下方位置に設けられた流体流路と
を具備し、
前記発熱体に通電して前記基体を加熱しつつ前記流体流路に流体を通流させることにより前記基体を所定の加熱温度に制御し、
前記基体を前記加熱温度から冷却する際には、前記発熱体への通電を遮断し、前記流体流路に前記加熱温度より低い温度の流体を通流させることを特徴とするセラミックスヒーター。
IPC (4件)：
H05B 3/74 ( 200 6.01)
, H05B 3/20 ( 200 6.01)
, H01L 21/205 ( 200 6.01)
, H01L 21/02 ( 200 6.01)
H05B 3/74
, H05B 3/20 356
, H01L 21/205
, H01L 21/02 Z
