特許

J-GLOBAL ID：201103058835503455

放電プラズマ薄膜製造装置

発明者： 登坂 昌久 ,  西口 直樹 ,  中尾 整
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-365118
公開番号（公開出願番号）：特開2001-181844
特許番号：特許第3335603号
出願日： 1999年12月22日
公開日（公表日）： 2001年07月03日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 混合ガス雰囲気中で、対向電極間に電界を印加して放電プラズマを発生させ、その放電プラズマを用いて基材上に薄膜を形成する薄膜製造装置において、対向電極の少なくとも一方の電極表面に、チタン酸バリウム層または二酸化ジルコニウム層と酸化アルミニウム層の2層からなる固体誘電体が、その酸化アルミニウム層を表層として積層されていることを特徴とする放電プラズマ薄膜製造装置。

IPC (4件)：

C23C 16/40 ,  C08J 7/00 306 ,  C23C 26/00 ,  H05H 1/24

FI (4件)：

C23C 16/40 ,  C08J 7/00 306 ,  C23C 26/00 D ,  H05H 1/24

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 堆積膜形成装置及び堆積膜形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-072173   出願人：キヤノン株式会社
• 離型シートの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-247012   出願人：積水化学工業株式会社