特許

J-GLOBAL ID：201103059925127262

テンプレート及びパターン形成方法

発明者： 徳江 寛
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 日向寺 雅彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-242977
公開番号（公開出願番号）：特開2011-088340
出願日： 2009年10月22日
公開日（公表日）： 2011年05月06日
要約：

【課題】転写層の欠陥を抑制するテンプレート及びパターン形成方法を提供する。【解決手段】第1の主面(転写面11a)に設けられた凹凸12を備えたテンプレートが提供される。転写面は、被処理基板20の主面20aに設けられた転写材30に接触させられ、転写面の転写材への接触により転写面の凹凸のパターンが転写材に転写される。凹凸の側壁12sは、凹凸の深さ方向(X軸方向)に沿って設けられた溝13bを有する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

第1の主面に設けられた凹凸を備え、 前記凹凸の側壁は、前記凹凸の深さ方向に延在する溝を有することを特徴とするテンプレート。

IPC (3件)：

B29C 33/38 ,  H01L 21/027 ,  B29C 59/02

FI (3件)：

B29C33/38 ,  H01L21/30 502D ,  B29C59/02 Z

Fターム (20件)：

4F202AG05 ,  4F202AH33 ,  4F202AJ08 ,  4F202AJ11 ,  4F202CA01 ,  4F202CB01 ,  4F202CK12 ,  4F202CK90 ,  4F202CM90 ,  4F209AD08 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PN06 ,  4F209PQ11 ,  5F046AA28 ,  5F146AA28

引用特許：

審査官引用 (3件)

• モールドの欠陥修正方法及びモールド
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-032131   出願人：凸版印刷株式会社
• パターンの形成方法、該パターンの形成方法によって形成されたパターン、モールド、加工装置及び加工方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-137234   出願人：キヤノン株式会社
• 光ディスク基板成型用スタンパおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-349921   出願人：キヤノン株式会社