特許

J-GLOBAL ID：201103060167568544

誘導加熱コイル

発明者： 佐野 和範 ,  古市 和秀 ,  有島 利治
出願人/特許権者： 高周波熱錬株式会社 ,  株式会社ネツレン・ヒートトリート
代理人 (1件)： 一徳 和彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-003238
公開番号（公開出願番号）：特開2000-204413
特許番号：特許第3924084号
出願日： 1999年01月08日
公開日（公表日）： 2000年07月25日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 その長手方向に延びる溝がその側壁に形成された長尺材の該側壁の前記長手方向に沿って相対的に移動しながら前記側壁を誘導加熱する誘導加熱コイルにおいて、 前記側壁の長手方向に沿って相対的に移動しながら該側壁の全面を誘導加熱する、前記側壁の長手方向に直交する幅方向に延びると共にこの側壁の幅よりも長い棒状の導体部を備え、 前記導体部は、前記溝の内壁から所定間隔離れた状態で該溝に挿入される凸部が形成されたものであり、 前記導体部のうち前記凸部の形成されていない平坦な部分から前記側壁の平坦な部分までの距離と、前記導体部の前記凸部から前記溝の内壁面までの距離とは等しいことを特徴とする誘導加熱コイル。

IPC (5件)：

C21D 1/10 ( 200 6.01) ,  C21D 1/42 ( 200 6.01) ,  H05B 6/10 ( 200 6.01) ,  H05B 6/36 ( 200 6.01) ,  H05B 6/40 ( 200 6.01)

FI (5件)：

C21D 1/10 H ,  C21D 1/42 K ,  H05B 6/10 381 ,  H05B 6/36 D ,  H05B 6/40

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 高周波焼入方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-059767   出願人：富士電子工業株式会社
• 高周波加熱コイル体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-095336   出願人：富士電子工業株式会社