プラズマ処理装置およびプラズマ処理システムとその安定化方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (7件)：志賀正武 , 高橋詔男 , 渡邊隆 , 青山正和 , 鈴木三義 , 西和哉 , 村山靖彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-199901
公開番号（公開出願番号）：特開2003-017299
特許番号：特許第3866057号
出願日： 2001年06月29日
公開日（公表日）： 2003年01月17日
請求項（抜粋）：

【請求項1】プラズマを励起するための電極を有するプラズマ処理室と、前記電極に高周波電力を供給するための高周波電源と、入力端子と出力端子とを有し該入力端子に前記高周波電源が高周波電力給電体を介して接続され前記出力端子に前記電極が接続されるとともに前記プラズマ処理室と前記高周波電源とのインピーダンス整合を得るための整合回路と、を具備するプラズマ処理室ユニットを有するプラズマ処理装置の安定化方法において、プラズマ生成用の電力を前記プラズマ処理室ユニットに供給する前記高周波電力給電体は、内導体とその周囲を絶縁体を介して覆う外導体とからなり可撓性を有する同軸ケーブルとされるとともに、前記プラズマ処理室ユニット外側表面および前記プラズマ処理室ユニット外側の接地電位箇所表面に対して固定配置され、前記プラズマ処理室ユニットの外側において、前記高周波電力給電体の高周波インピーダンスAが所定の値を有し、かつ、前記外導体と前記内導体との間の容量CL にくらべて、前記外導体と前記接地電位箇所との間のロス容量CXが充分小さな範囲の値になるように、前記外導体と前記接地電位箇所との間の最低距離をその全長にわたって所定値に設定することを特徴とするプラズマ処理装置の安定化方法。

IPC (4件)：

H05H 1/46 ( 200 6.01) , B01J 19/08 ( 200 6.01) , C23C 16/505 ( 200 6.01) , H01L 21/205 ( 200 6.01)

FI (4件)：

H05H 1/46 R , B01J 19/08 H , C23C 16/505 , H01L 21/205

引用特許：

出願人引用 (7件)

プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-141209 出願人：東京エレクトロン株式会社
特開平4-000901
高周波電流の測定方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-238373 出願人：三菱電機株式会社, 菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社

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審査官引用 (7件)

プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-141209 出願人：東京エレクトロン株式会社
特開平4-000901
高周波電流の測定方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-238373 出願人：三菱電機株式会社, 菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社

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