特許
J-GLOBAL ID：201103061308266926

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者：
水谷 一良

水谷 一良 について

, 
安波 昭一郎

安波 昭一郎 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-275332
公開番号（公開出願番号）：特開2001-100417
特許番号：特許第3967047号
出願日： 1999年09月28日
公開日（公表日）： 2001年04月13日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 少なくとも下記一般式(I)で示されるシロキサン構造単位と、酸で分解してアルカリ可溶性基を発生させる基をもつシロキサン構造単位とを含有するポリシロキサンを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 式(I)中、Lは単結合又はアリーレン基を表す。Aは芳香環又は脂環構造を表し、それぞれ置換基を有していてもよい。nは1〜6の整数を表す。
IPC (4件)：
G03F 7/075 ( 200 6.01) ,  G03F 7/004 ( 200 6.01) ,  G03F 7/039 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)
FI (4件)：
G03F 7/075 511 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
引用特許：
審査官引用 (5件)
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