偏光回折素子の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：森田順之
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-159532
公開番号（公開出願番号）：特開2000-347017
特許番号：特許第4286385号
出願日： 1999年06月07日
公開日（公表日）： 2000年12月15日
請求項（抜粋）：

【請求項1】配向支持基板上にGPC(ポリスチレン換算)で測定した重量平均分子量Mwが1000〜10万、分子量分布(Mw/Mn;Mnは数平均分子量)が5以下、対数粘度が0.05〜2.0(フェノール/テトラクロロエタン(重量比60/40)混合溶媒において濃度0.5g/dl(温度30°C))、ガラス転移温度(Tg)が200°C以下、かつ液晶相から等方相への転移温度(Ti)が40°C以上である液晶性ポリエステルからなるコレステリック配向フィルムを形成する第1工程、コレステリック配向フィルム表面に回折素子基板の回折パターンを転写する第2工程、回折パターンが転写されたコレステリック配向フィルム面と支持基板1とを接着剤層1を介して積層する第3工程、第1工程で用いた配向支持基板をコレステリック配向フィルムから除去する第4工程、及び配向支持基板を除去したコレステリック配向フィルム面と支持基板2とを接着剤層2を介して積層する第5工程、を含む偏光回折素子の製造方法。

IPC (4件)：

G02B 5/18 ( 200 6.01) , G02B 5/30 ( 200 6.01) , G02B 5/32 ( 200 6.01) , C09K 19/02 ( 200 6.01)

FI (4件)：

G02B 5/18 , G02B 5/30 , G02B 5/32 , C09K 19/02

引用特許：

出願人引用 (10件)

特開昭61-126644
特開昭61-050103
特開平3-129382

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審査官引用 (10件)

特開昭61-126644
特開昭61-050103
特開平3-129382

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