特許

J-GLOBAL ID：201103062083713983

被処理体の載置機構

発明者： 鈴木 勝
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 小原 肇
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-195246
公開番号（公開出願番号）：特開2001-024049
特許番号：特許第4267131号
出願日： 1999年07月09日
公開日（公表日）： 2001年01月26日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 被処理体を載置する正逆回転可能な載置体と、この載置体上で上記被処理体を受け渡すために載置面を基準に出没する複数のピンと、これらのピンを出没可能に支持し且つ上記載置体の下側に弾力をもって連結された支持体と、この支持体を上記載置体と一体的に昇降させる昇降駆動機構と、この昇降駆動機構を介して上記載置体が所定の高さまで上昇し一方向に回転した上記支持体の下面に当接し且つ上記昇降駆動機構を介して上記載置体が上記所定の位置から下降する際に上記支持体を弾力に抗して上記載置体側へ相対的に押し上げて上記各ピンを上記載置面から突出させる押し上げ棒を有する押し上げ手段とを備え、上記載置体が上記昇降駆動機構を介して上記所定の位置まで再度上昇して上記一方向とは逆方向に回転する間に上記押し上げ棒が上記支持体の下面から外れて上記支持体を回避する回避部を上記支持体に設けたことを特徴とする被処理体の載置機構。

IPC (2件)：

H01L 21/683 ( 200 6.01) ,  H01L 21/66 ( 200 6.01)

FI (2件)：

H01L 21/68 N ,  H01L 21/66 G

引用特許：

出願人引用 (2件)

• プラズマ処理方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-109813   出願人：日電アネルバ株式会社
• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-141156   出願人：東京エレクトロン株式会社

審査官引用 (2件)

• プラズマ処理方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-109813   出願人：日電アネルバ株式会社
• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-141156   出願人：東京エレクトロン株式会社