低フリクション炭素薄膜

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：的場基憲
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-126754
公開番号（公開出願番号）：特開2000-320673
特許番号：特許第4203971号
出願日： 1999年05月07日
公開日（公表日）： 2000年11月24日
請求項（抜粋）：

【請求項1】非晶質の炭素を主成分とする第1の層と、鉄を主成分とする第2の層との交互積層構造を備え、少なくとも摺動時に第2の層に含まれる鉄の一部が摩擦面に露出していることを特徴とする低フリクション炭素薄膜。

IPC (2件)：