特許
J-GLOBAL ID:201103062507138771

基板選択装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 金山 聡
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-232215
公開番号(公開出願番号):特開2002-055437
特許番号:特許第4170569号
出願日: 2000年07月31日
公開日(公表日): 2002年02月20日
請求項(抜粋):
【請求項1】 感光材層を塗布形成したフォトマスク形成用の感光材層塗布基板群の中から、目的とする製品に使用する基板を選択する基板選択装置であって、感光材層塗布基板の、欠陥に対応して欠陥検査結果をデータベースに登録する1つ以上の欠陥登録部と、感光材層の感度を感光材層塗布のロット毎に、チェックした感光材層ロットチェック結果を、データベースに登録する感光材層ロットチェック結果登録部と、データベースに登録された欠陥検査結果、感光材層ロットチェック結果に基づいて、基板群の中から、目的とする製品作製に使用する基板を選択する基板選択部とを備えていることを特徴とする基板選択装置。
IPC (2件):
G03F 1/08 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)
FI (3件):
G03F 1/08 Z ,  G03F 1/08 S ,  H01L 21/30 502 P
引用特許:
審査官引用 (4件)
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