特許
J-GLOBAL ID：201103062735365567
リソグラフィ投影装置に使うための平衡位置決めシステム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
稲葉 良幸
, 大賀 眞司
, 大貫 敏史
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-404377
公開番号（公開出願番号）：特開2002-015985
特許番号：特許第4268333号
出願日： 2000年12月19日
公開日（公表日）： 2002年01月18日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 リソグラフィ投影装置であって:
放射線の投影ビーム(PB)を供給するための照明システム(IL);
所望のパターンに従ってこの投影ビームをパターニングすることが出来るパターニング手段(MA)を保持するための第1物体テーブル(MT);
基板(W)を保持するための第2物体テーブル(WT);
このパターン化したビームをこの基板の目標部分(C)上に結像するための投影システム(PL);および
上記物体テーブルの少なくとも一つを3を超える自由度で位置決めできる平衡位置決めシステム(10);
を含み、この位置決めシステムが:
少なくとも一つの平衡質量(2);
上記平衡質量を可動に支持するための軸受手段(3);
上記物体テーブルを第1ないし第3自由度で位置決めするための粗位置決め手段で、上記3自由度が第1および第2方向(X、Y)の並進並びに第3方向(Z)周りの回転(Rz)であり、上記第1、第2および第3方向が実質的に相互に直交する手段;および
上記物体テーブルを上記第1、第2および第3と実質的に直交する少なくとも第4自由度(Z)で位置決めするための微細位置決め手段で、上記粗および微細位置決め手段は、上記粗および微細位置決め手段からの反力を上記平衡質量へ伝えるように配置してある手段を含み:
上記平衡質量を上記軸受手段によって少なくとも上記第4自由度で実質的に自由に動けるように支持することを特徴とし、
更に、上記装置が、上記第1および第2方向(X、Y)に平行に拡がる案内面を有するベース板(BP)を含み、
上記軸受手段(3)が、複数の実質的に無摩擦の軸受(3)を含み、この軸受(3)が、上記第3方向に低剛性を有する支持体によって上記平衡質量(2)に結合され、且つ上記ベース板の上記案内面に作用することを特徴とする投影装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
, G12B 5/00 ( 200 6.01)
H01L 21/30 503 B
, H01L 21/30 516 B
, G03F 7/20 521
, G12B 5/00 T
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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