特許

J-GLOBAL ID：201103062774676081

微細パターン形成用樹脂組成物および微細パターン形成方法、ならびに重合体

発明者： 若松 剛史 ,  庵野 祐亮 ,  藤原 考一
出願人/特許権者： JSR株式会社
代理人 (1件)： 和気 操
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-211916
公開番号（公開出願番号）：特開2011-059583
出願日： 2009年09月14日
公開日（公表日）： 2011年03月24日
要約：

【課題】熱処理により、レジストパターンを円滑により安定して収縮させることができると共に、その後のアルカリ水溶液処理により容易に除去し得る。【解決手段】樹脂と、この樹脂を架橋させる架橋剤と、溶媒とを含み、レジストパターンを微細化するための樹脂組成物であって、上記樹脂が下記式(1-4)で表される繰り返し単位を含む。 R1は水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を表し、R2は-CH(CH3)-を表し、R3はトリフルオロメチル基を表し、R4は水素原子を表す。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

樹脂と、この樹脂を架橋させる架橋剤と、溶媒とを含み、レジストパターンを微細化するための微細パターン形成用樹脂組成物であって、 前記樹脂が下記式(1-1)ないし式(1-3)で表される繰り返し単位から選ばれる少なくとも1つの繰り返し単位と、下記式(2)ないし式(5)で表される繰り返し単位から選ばれる少なくとも1つの繰り返し単位とを含有することを特徴とする微細パターン形成用樹脂組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/40 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/26

FI (3件)：

G03F7/40 511 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/26

Fターム (26件)：

2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096EA05 ,  2H096GA08 ,  2H096HA05 ,  2H096JA04 ,  4J100AB07Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08R ,  4J100AL10Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA04Q ,  4J100BA34Q ,  4J100BA38Q ,  4J100BA46Q ,  4J100BA59R ,  4J100BB18P ,  4J100BB18R ,  4J100BC08P ,  4J100BC08R ,  4J100BC09R ,  4J100BC53Q ,  4J100BC73Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (2件)

• パターン形成方法及びこれに用いるパターン表面コート材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-205317   出願人：信越化学工業株式会社
• 重合体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-082967   出願人：JSR株式会社