重合体

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：和気操
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-082967
公開番号（公開出願番号）：特開2006-307179
出願日： 2006年03月24日
公開日（公表日）： 2006年11月09日
要約：

【課題】微細パターン形成用樹脂組成物の樹脂成分として用いることができる重合体を提供する。【解決手段】下記式(1)で表される単位と、式(2)および式(3)で表される単位から選ばれる少なくとも1つの繰返し単位とを含み、ポリスチレン換算質量平均分子量が1,000〜500,000である重合体。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記式(1)で表される繰返し単位と、下記式(2)および下記式(3)で表される繰返し単位から選ばれる少なくとも1つの繰返し単位とを含み、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ法により測定したポリスチレン換算質量平均分子量が1,000〜500,000であることを特徴とする重合体。

IPC (6件)：

C08F 220/58 , G03F 7/033 , G03F 7/40 , H01L 21/027 , C08F 220/12 , C08F 212/08

FI (6件)：

C08F220/58 , G03F7/033 , G03F7/40 511 , H01L21/30 502R , C08F220/12 , C08F212/08

Fターム (24件)：

2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AD05 , 2H025FA33 , 2H096AA25 , 2H096BA01 , 2H096BA09 , 2H096HA05 , 4J100AB02R , 4J100AL03Q , 4J100AL08Q , 4J100AM19P , 4J100BA03P , 4J100BA03Q , 4J100BA03R , 4J100BA04R , 4J100BB18Q , 4J100BC07Q , 4J100BC43P , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100DA01 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (11件)

特許第2723260号公報
パターン形成方法、位相シフト法用ホトマスクの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-037616 出願人：沖電気工業株式会社
微細パターン形成材料及びこれを用いた半導体装置の製造方法並びに半導体装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-080940 出願人：三菱電機株式会社

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審査官引用 (5件)

ネガ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-116216 出願人：富士写真フイルム株式会社
生分解性重合体とその製造法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-253293 出願人：出光石油化学株式会社
特開昭64-052139

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